中晶科技 知识产权工作成绩斐然，连获三项发明专利授权

近日，中晶科技自主发明的“一种制备纳米光栅的装置和方法”通过国家知识产权局审核，取得发明专利授权（专利号ZL2017 1 0253240.6）。该项发明专利为公司今年以来取得的第三项发明专利，同时取得实用新型专利授权5项，并在国内核心科技期刊发表EI论文1篇。

今年来，中晶科技始终坚持将技术创新作为企业发展的核心推动力，全面贯彻知识产权工作新发展理念,持续加强知识产权创造、运用、保护，正是由于公司在新技术、新产品研发发明的新颖性、创造性和实用性突出，才能在不到一年时间内接连获得三项发明专利授权。截止目前，公司已累计取得各类专利27项。

编辑：赖德炎 黄富民

监制：陈寿南